Name: 11x11 Biji berlian yang ditanam di laboratorium CVD mentah Wafer berlian Plat industri tanpa warna
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: JSD
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

Rumah Produk Berlian CVD Mekanis

11x11 Biji berlian yang ditanam di laboratorium CVD mentah Wafer berlian Plat industri tanpa warna

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

Detail produk:

Tempat asal:	Hunan, Cina
Nama merek:	Infi
Nomor model:	JSD

Syarat-syarat pembayaran & pengiriman:

Kuantitas min Order:	10 pcs
Harga:	To be negotiated
Kemasan rincian:	dikemas dalam kotak kemudian ke karton
Waktu pengiriman:	7 hari kerja
Syarat-syarat pembayaran:	T/T, Western Union, Paypal
Menyediakan kemampuan:	100pcs/7 hari

Kontak

Detil Deskripsi produk

Ukuran:	11x11x0.3mm	Warna:	Tanpa warna
Nama produk:	Cvd Plat berlian	Kekerasan (mikrokekerasan):	80-150 GPa
Modulus Muda:	1150-130OGPa	Koefisien Ekspansi Termal:	10-.K-l
koefisien gesekan:	0.05 ~ 0.05	Konduktivitas termal:	1500-2000 w/ (m·K)
Menyoroti:	11x11 Biji Berlian yang Tumbuh di Lab , Wafer berlian CVD kasar tanpa warna , Piring berlian Cvd industri

11×11 Benih Berlian Buatan Lab Kasar CVD Diamond Wafers Pelat Warna-warni Industri

Spesifikasi Produk

Atribut	Nilai
Ukuran	11×11×0.3mm
Warna	Tidak Berwarna
Nama Produk	Pelat Berlian CVD
Kekerasan (mikrokekerasan)	80～150GPa
Modulus Young	1150～1300GPa
Koefisien ekspansi termal	10^-6K^-1
Koefisien gesekan	0.05～0.05
Konduktivitas termal	1500-2000 W/(m·K)

Ikhtisar Produk

Wafers Berlian Kasar CVD Berlian Buatan Lab 11×11×0.3mm kami diproduksi menggunakan teknologi Chemical Vapor Deposition (CVD). Proses ini menguraikan gas yang mengandung karbon dalam kondisi terkontrol untuk membentuk lapisan berlian kristal tunggal berkualitas tinggi pada substrat.

Karakteristik Utama

Berlian kristal tunggal CVD menawarkan stabilitas termal yang luar biasa yang sebanding dengan berlian alami, dengan sifat isotropik karena pengaturan butiran yang tidak teratur. Pelat ini tidak mengandung katalis logam, memastikan kinerja unggul dalam aplikasi yang menuntut.

Spesifikasi Teknis

Kandungan nitrogen: <50ppm
Konsentrasi Boron [B]: <0.05 ppm
Konsentrasi Nitrogen: <20 ppm
Dua sisi dipoles, Ra <20 nm
Dimensi Lateral Diukur ke sisi yang lebih kecil
Toleransi L + W (0, +0.3 mm)
Toleransi ketebalan (0, +0.1mm)

Ukuran yang Tersedia

3×3×0.3mm

4×4×0.3mm

5×5×0.3mm

6×6×0.3mm

7×7×0.3mm

8×8×0.3mm

9×9×0.6mm

10×10×0.3mm

11×11×0.3mm

12×12×0.3mm

13×13×0.3mm

15×15×0.3mm

Jaminan Kualitas

Tepi potong laser presisi dengan <100> orientasi
Orientasi bidang {100}
Tidak ada bintik hitam atau retakan polikristalin di bawah perbesaran 20×
Pemotongan sempurna tanpa sudut yang hilang
Distribusi tegangan seragam di bawah polarisator

Aplikasi yang Disarankan

Ideal untuk digunakan sebagai substrat/benih untuk pertumbuhan CVD kristal tunggal, alat pemotong dan penggilingan, penyebar panas, dan komponen optik yang memerlukan kekerasan dan konduktivitas termal yang luar biasa.

Gambar Produk