9x9x0.3mm CVD Mekanis Berlian mentah Uncut sintetis Biji Berlian Lab Tumbuh

CVD kristal tunggal berlian (penyebaran uap kimia) diproduksi menggunakan proses di mana gas yang mengandung karbon terurai dalam kondisi terkontrol,membentuk lapisan kristal berlian tunggal pada substratBahan ini terkenal dengan kekerasan dan konduktivitas termalnya yang luar biasa, menjadikannya ideal untuk aplikasi industri dan ilmiah termasuk alat pemotong, pemanasan,dan komponen optik.

Berlian CVD tidak mengandung katalis logam, sehingga memberikan stabilitas termal yang sebanding dengan berlian alami. butir-butirnya diatur secara isotrop tanpa bidang pembelahan rapuh,mirip dengan berlian polikristalin tekanan tinggi.

Menggunakan pengendapan uap kimia plasma-dibantu gelombang mikro (MPACVD), gas yang mengandung karbon dipecah untuk menghasilkan plasma, memungkinkan pertumbuhan homoepitaxial di 100,110 dan 111 arah kristal biji berlian tipe IIb.

• Aplikasi yang disarankan:Substrat/biji untuk pertumbuhan CVD kristal tunggal
• Proses pertumbuhan kristal:CVD
• Warna:Tidak berwarna
• Ukuran yang tersedia:3x3x0.3mm sampai 15x15x0.3mm dalam increments 1mm
• Manfaatnya:Toleransi dimensi positif, tidak ada bintik-bintik polikristalin atau retakan di bawah pembesaran 20x, pemotongan sempurna tanpa sudut yang hilang, distribusi tegangan seragam
• Orientasi:4pt/100
• Spesifikasi tepi:Pemotongan laser dengan orientasi tepi <100> dan orientasi wajah {100}
• Toleransi:L+W (0, +0,3mm), ketebalan (0, +0,1mm)
• Penutup permukaan:Opsi dua sisi dipoles (Ra < 20nm) atau satu sisi dipoles
• Konsentrasi boron:< 0,05 ppm
• Konsentrasi nitrogen:< 20 ppm